產(chǎn)品展示
半導體濕式清洗設備
設備特點(diǎn)：
隨著(zhù)半導體芯片應用面的應用越趨廣泛，除了計算機及網(wǎng)路通信等先進(jìn)工藝外，近年來(lái)隨著(zhù)汽車(chē)電子、工業(yè)控制、電源管理、功率器件等特色工藝應用也隨之興起。
產(chǎn)品概述
隨著(zhù)半導體芯片應用面的應用越趨廣泛，除了計算機及網(wǎng)路通信等先進(jìn)工藝外，近年來(lái)隨著(zhù)汽車(chē)電子、工業(yè)控制、電源管理、功率器件等特色工藝應用也隨之興起。
工藝技術(shù)節點(diǎn)也分化成28納米以及14nm等先進(jìn)工藝等級，以及特色工藝65nm~0.8um兩種； 依據工藝不同，槽式設備工藝也需要依據工藝需求來(lái)選擇合適的清洗設備；并且兼顧降低晶圓清洗成本和兼顧環(huán)境保護。
◆ 高處理性能
◆ 良好的設備穩定性；
◆ 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ；
◆ 高生產(chǎn)率
◆ 合理的價(jià)格
槽式濕法設備的工藝應用
◆ 去膠及去膠后清洗
◆ 爐管及長(cháng)膜前清洗
◆ 氧化層/氮化硅蝕刻
◆ 銅/鈦金屬蝕刻
槽式濕法的亮點(diǎn)
◆ 可以提供完整的濕法工藝解決方案，及前瞻的技術(shù)規劃。
◆ 設備及工藝已經(jīng)通過(guò)國際一線(xiàn)大廠(chǎng)的驗證。
◆ 設備依據客戶(hù)需求量身定做，可滿(mǎn)足客戶(hù)不同條件。
◆ 良好的設備穩定性；
◆ 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ；
◆ 高生產(chǎn)率；
◆ 合理的價(jià)格
工藝技術(shù)節點(diǎn)也分化成28納米以及14nm等先進(jìn)工藝等級，以及特色工藝65nm~0.8um兩種； 依據工藝不同，槽式設備工藝也需要依據工藝需求來(lái)選擇合適的清洗設備；并且兼顧降低晶圓清洗成本和兼顧環(huán)境保護。
◆ 高處理性能
◆ 良好的設備穩定性；
◆ 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ；
◆ 高生產(chǎn)率
◆ 合理的價(jià)格
槽式濕法設備的工藝應用
◆ 去膠及去膠后清洗
◆ 爐管及長(cháng)膜前清洗
◆ 氧化層/氮化硅蝕刻
◆ 銅/鈦金屬蝕刻
槽式濕法的亮點(diǎn)
◆ 可以提供完整的濕法工藝解決方案，及前瞻的技術(shù)規劃。
◆ 設備及工藝已經(jīng)通過(guò)國際一線(xiàn)大廠(chǎng)的驗證。
◆ 設備依據客戶(hù)需求量身定做，可滿(mǎn)足客戶(hù)不同條件。
◆ 良好的設備穩定性；
◆ 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ；
◆ 高生產(chǎn)率；
◆ 合理的價(jià)格
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